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三氟甲磺酸(4-苯氧基苯基)二苯基锍主要在光聚合和光刻胶技术领域进行研究,因为它作为光酸产生剂的作用。对该化合物的研究主要集中在它暴露于紫外线下释放强酸的能力,这对于半导体制造中精细图案的开发至关重要。研究探索了三氟甲磺酸(4-苯氧基苯基)二苯基锍在引发酸催化聚合反应中的效率,这对于创建高分辨率光刻胶至关重要。同时,严格测试了三氟甲磺酸(4-苯氧基苯基)二苯基锍在不同波长和光强度下的稳定性和灵敏度,以优化其在各种工业应用中的性能。此外,还评估了使用三氟甲磺酸(4-苯氧基苯基)二苯基锍对环境的影响,包括其分解产物和毒性,以确保在电子行业中的安全和可持续使用。
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产品名称 | 产品编号 | 规格 | 价格 | 数量 | 收藏夹 | |
(4-Phenoxyphenyl)diphenylsulfonium triflate, 1 g | sc-396963 | 1 g | RMB1151.00 |